京东方Ａ获得发明专利授权：“探测基板及其制作方法和探测器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“探测基板及其制作方法和探测器”，专利申请号为CN202211336849.7，授权日为2025年7月11日。

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专利摘要：本发明提出了探测基板及其制作方法和探测器。探测基板包括：衬底；栅极，栅极设置在衬底的一侧；有源层，有源层设置在栅极远离衬底的一侧，有源层包括掺杂部，掺杂部包括间隔设置的第一掺杂区和第二掺杂区，掺杂部具有第一掺杂浓度；掺杂层，掺杂层设置在第二掺杂区远离衬底的至少部分表面上，且掺杂层与第一掺杂区没有交叠，掺杂层具有第二掺杂浓度，第二掺杂浓度大于第一掺杂浓度；源漏电极层，源漏电极层包括源极和漏极，漏极与第一掺杂区接触连接，源极与掺杂层接触连接。由此，上述探测基板在薄膜晶体管处于断开的状态下，不易产生漏电流，并且，掺杂层的设置进一步改善了源极与有源层的欧姆接触，提高了薄膜晶体管的开关比。

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今年以来京东方Ａ新获得专利授权2050个，较去年同期减少了0.82%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

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